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PLASSOL: high power plasma for deposition of thin Si absorber layers

Description: Das Projekt "PLASSOL: high power plasma for deposition of thin Si absorber layers" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von International Solar Energy Research Center Konstanz e.V. durchgeführt. Das Projekt hat zum Ziel mit Hochleistungsplasmaverfahren große Flächen mit hohen Aufnahmeraten zu beschichten und dadurch die Herstellungskosten von photovoltaisch tauglichen Ci-Schichten erheblich zu senken. Ausgehend von DC-Plasmaverfahren wurde die Mikrowellenplasmatechnologie bei einer Frequenz von 915MHz zu einer resonanten Anordnung eingesetzt. Für genügend hohe Plasmaenergiedichten können solaraktive Si-Schichten auch an Si-Pulver als Rohmaterial anstatt SiH4 erzeugt werden. Schichten bis zu einer Dichte von my und einer Fläche von 20x20cm2 mit Defektdichten kleiner als 1017/cm3 und einer opt. Bandfläche von ca. 1.7eV konnten so mit Abscheideraten von 25-100nm/s erzeugt werden und so die Leistungsfähigkeit der Technologie demonstriert werden.

Types:

SupportProgram

Origin: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Konstanz ? Plasmatechnik ? Rohmaterial ? Absorber ? Absorptionsmittel ? Photovoltaik ? Silizium ? Solarenergie ? Solarzelle ? Solartechnik ? Beschichtung ? Energie ? Energietechnik ? Kostensenkung ? Produktionskosten ? Deposition ? Forschungseinrichtung ? Ablagerung ? Abscheiderate ? Pulver ?

Region: Baden-Württemberg

Bounding box: 9° .. 9° x 48.5° .. 48.5°

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

Time ranges: 2007-09-01 - 2010-12-31

Status

Quality score

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