Description: Das Projekt "Dynamische Abscheidung von a-Si und TCO-Schichten für Hocheffizienz Si-Solarzellen als Schlüssel für hochproduktive Fertigung bei reduzierten Herstellungskosten; Teilvorhaben: Dynamische PECVD für Hocheffizienz Si-Solarzellen - Grundlagenuntersuchungen" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Technische Universität Dresden, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik durchgeführt. Im Projekt werden Grundlagenuntersuchungen zur dynamischen Abscheidung von amorphem Silizium für Heterojunction Solarzellen durchgeführt. Dabei kommt ein hochproduktives dynamisches PECVD Verfahren mittels linearer Plasmaquellen zum Einsatz. Einerseits sollen im Projekt sehr hohe dynamische Abscheideraten (5 nm.m/min) bei gleichzeitig hoher Passivierwirkung der a-Si:H Schichten (größer als 1 ms, iVoc größer als 720 mV) erreicht werden. Andererseits wird auch die Industrietauglichkeit der Abscheidung (Gasausnutzung größer als 20%) verbessert. Des Weiteren werden grundlegende Aspekte der dynamischen Abscheidung (Einfluss der Substratgeschwindigkeit, Homogenität der Abscheidung etc.) vor dem Hintergrund einer geforderten effizienten, wartungsarmen Beschichtungstechnologie untersucht. Der Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die Produktivität der Abscheidung ist ebenfalls Untersuchungsgegenstand des Teilvorhabens.
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Dresden ? Silizium ? Solarzelle ? Abscheidung ? Produktionskosten ? Produktivität ? Mikrotechnik ? Abscheiderate ?
Region: Sachsen
Bounding boxes: 10.96785° .. 10.96785° x 47.85761° .. 47.85761°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 2019-01-01 - 2021-12-31
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