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Duennschichtsolarzellen auf der Basis elektronenstrahlrekristallisierter und durch Fluessigphasenepitaxie verstaerkter Siliziumschichten auf Graphitsubstraten

Description: Das Projekt "Duennschichtsolarzellen auf der Basis elektronenstrahlrekristallisierter und durch Fluessigphasenepitaxie verstaerkter Siliziumschichten auf Graphitsubstraten" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Technische Universität Hamburg-Harburg, Forschungsschwerpunkt 02, Arbeitsbereich Halbleitertechnologie durchgeführt. Ziel des Vorhabens ist die Entwicklung eines kostenguenstigen Verfahrens zur Herstellung von Siliziumduennschichtsolarzellen auf Graphitsubstraten mit hohem Wirkungsgrad. Dazu ist zunaechst eine Hochratenabscheidung von duennen Siliziumschichten mit einem PECVD-Verfahren aus Silan zu entwickeln, die anschliessend in einem Elektronenstrahlrekristallisationsverfahren innerhalb weniger Sekunden zu grosskristallinen orientierten Siliziumschichten umkristallisiert werden. Darauf soll mit LPE-Verfahren die aktive Schicht aufgebracht und durch LPE oder Dotierung die Solarzelle vervollstaendigt werden. Hierzu ist eine enge Zusammenarbeit mit dem IZL, Berlin (LPE) und Siemens, Muenchen, Solarzellen vorgesehen. Die Zellen sind durch mikroanalytische, elektronische und solarzellenspezifische Verfahren zu analysieren. Ziel ist die Erzeugung einer kostenguenstigen Zelle mit einem Wirkungsgrad von ca 15 Prozent bis einer Flaeche von ca 10 x 10 cm2.

Types:

SupportProgram

Origin: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Silan ? Berlin ? Silizium ? Solarenergie ? Solarzelle ? Solartechnik ? Energieeinsparung ? Produktionstechnik ? Wirkungsgrad ? Zelle ? Umweltfreundliche Technologie ? Elektronenstrahlrekristallisation ? Fluessigphsenepitaxie ? LPE-Verfahren ? PECVD-Verfahren ? Siliziumduennschichtsolarzellen ?

Region: Hamburg

Bounding box: 9.99302° .. 9.99302° x 53.55073° .. 53.55073°

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

Time ranges: 1994-05-01 - 1998-12-31

Status

Quality score

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