Description: Das Projekt "Teilprojekt 1: Konzeption, versuchstechnische Realisierung und Evaluierung der Prozess- und Anlagentechnologie" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von plasma technology GmbH durchgeführt. Plasmagestützte Ätzprozesse repräsentieren heute wichtige Fertigungsschritte in der Leiterplattenherstellung und Halbleiterfertigung. Hierin werden jedoch häufig Fluorkohlenwasserstoffe (FKW) als Prozessgase eingesetzt und mit der Abluft emittiert, die aufgrund ihrer hohen Treibhauspotenziale als besonders klimaschädlich einzustufen sind. Um dies zukünftig zu vermeiden, verfolgt das Projekt 'PlasmaKlient' einen völlig neuen technologischen Ansatz. Danach werden in einem gekapselten Kreislauf mehrere Plasmastufen kombiniert, in denen Fluor zunächst aus Flussspat gewonnen, dann in das Ätzplasma eingebracht und unter Plasmaeinwirkung wieder chemisch gebunden wird. Die Recyclate werden dem Prozess direkt wieder als Fluorquelle zugeführt. Ziel zum Ende des Vorhabens ist es, die drei erarbeiteten Prozessstufen erstmals in einem labortechnischen Anlagendemonstrator zusammenzuführen, mit dem am Beispiel von Referenzanwendungen aus der Leiterplattenherstellung sowohl der Nachweis über die Realisierbarkeit eines effizienten, FKW-emissionsfreien Plasmaätzprozesses als auch die Funktionsfähigkeit einer entsprechenden integrierten Anlagenlösung erbracht werden kann. Auf dieser Basis bietet sich die Chance, den Prozess des Plasmaätzens erstmals umwelt- bzw. klimafreundlich zu gestalten. Gleichzeitig wird der Anwender in die Lage versetzt, auf den Einsatz teurer Prozessgase zu verzichten und stattdessen günstig verfügbare Primär- und selbstproduzierte Sekundärfluorquellen nutzen zu können.
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Fluor ? Elektroindustrie ? Abluft ? Fluorkohlenwasserstoffe ? Rezyklat ? Emissionsfreiheit ? Bewertung ? Emission ? Flussspat ? Galvanik ? Klimaschutz ? Treibhauspotenzial ?
Region: Baden-Württemberg
Bounding boxes: 9° .. 9° x 48.5° .. 48.5°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 2019-09-01 - 2022-02-28
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