Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE), Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)

Description: Das Projekt "Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE), Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics,Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik.

SupportProgram

Origins: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Elektrizität ? Germanium ? Silizium ? Materialprüfung ? Mikroskopie ? Spektralanalyse ? Struktur-Wirkung-Beziehung ? Temperatur ? Leitfähigkeit ? Mikroelektronik ? Bauelement ? Halbleiter ? Kenngröße ? Produktdesign ? Versuchsanlage ? Effizienzsteigerung ? Netz ? Thermoelektrizität ? Wechselwirkung ? Wärmeleitung ? ZT-Wert ?

Region: Brandenburg

Bounding boxes: 13.01582° .. 13.01582° x 52.45905° .. 52.45905°

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Leaflet | © OpenStreetMap

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

• Bundesministerium für Bildung und Forschung (Bereitsteller*in)
• Fraunhofer-Gesellschaft (Mitwirkende)
• IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics,Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik (Betreiber*in)
• Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. (Mitwirkende)
• Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg (Mitwirkende)
• Max-Planck-Gesellschaft (Mitwirkende)
• Umweltbundesamt (Bereitsteller*in)

Time ranges: 2009-08-01 - 2013-02-28

Resources

• Webseite zum Förderprojekt

  https://www.tib.eu/de/filter?repno=03X3541D (Webseite)

Status

Aktiv

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