Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE), Glancing Angle Deposition von Si-Ge-Nanosäulen

Description: Das Projekt "Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE), Glancing Angle Deposition von Si-Ge-Nanosäulen" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V..

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Origins: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Substrat ? Elektrizität ? Germanium ? Silizium ? Struktur-Wirkung-Beziehung ? Temperatur ? Vakuumtechnik ? Verfahrensparameter ? Abscheidung ? Verfahrenstechnik ? Werkstoffkunde ? Thermisches Verfahren ? Anlagenbau ? Bauelement ? Halbleiter ? in situ ? Produktdesign ? Nanotechnologie ? Nanomaterialien ? Glancing Angle Deposition ? Nachbehandlung ? Thermoelektrizität ?

Region: Sachsen

Bounding boxes: 10.40664° .. 10.40664° x 49.29433° .. 49.29433°

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Leaflet | © OpenStreetMap

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

• Bundesministerium für Bildung und Forschung (Bereitsteller*in)
• Fraunhofer-Gesellschaft (Mitwirkende)
• IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics , Institut für innovative Mikroelektronik (Mitwirkende)
• Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. (Betreiber*in)
• Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg (Mitwirkende)
• Max-Planck-Gesellschaft (Mitwirkende)
• Umweltbundesamt (Bereitsteller*in)

Time ranges: 2009-08-01 - 2012-07-31

Resources

• Webseite zum Förderprojekt

  https://www.tib.eu/de/filter?repno=03X3541C (Webseite)

Status

Aktiv

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