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Entwicklung und Optimierung von Prozessen zur Herstellung hocheffizienter großflächiger Si-Dünnschicht-PV-Module

Description: Der vorliegende Bericht beinhaltet grundlegende Arbeiten zur Weiterentwicklung der a-Si PV-Technologie. Er behandelt die Themen: Entwicklung von PECVD-Prozessen auf großen industrierelevanten Flächen, Verbesserung und Optimierung von Strukturierungsverfahren für hohe Flächenausnutzung, Beschleunigung und Reproduzierbarkeit der Einzelprozesse sowie Langzeitstabilität von verkapselten Modulen. Der Nachweis, dass a-Si Dünnschichtmodule höhere Erträge im Vergleich zu anderen PV-Technologien erbringen kann, wurde erbracht. Eine grundlegende Entscheidung wurde getroffen für die zukünftige Generation der PECVD-Anlage, eine Einkammerlaboranlage der Fa. Unaxis mit 1,4m2 Substratgröße wurde in Betrieb genommen. Entwicklungsarbeiten wurden begonnen.

Types:
SupportProgram

Tags: Photovoltaik ? Silizium ? Photovoltaikanlage ? Solartechnik ? Energietechnik ? Arbeit ? Technische Aspekte ? Modul ? Amorphes Silizium (a-Si) ? Amorphous silicon (a-Si) ? Bodeneffizienz ? Haltbarkeit ? KAI equipment ? PECVD processes ? PECVD-Prozesse ? PV modules ? Solarmodul ? a-Si technology ? a-Si-Technologie ? p-i-n/p-i-n tandem cells ? photoviltaics (PV) ?

Region: Bayern

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License: Creative Commons Namensnennung-keine Bearbeitung-Nichtkommerziell 4.0

Language: Deutsch

Organisations

Last harvest: 26.05.2026 00:09

Time ranges: 2001-01-01 - 2003-12-31

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