Description: Das Projekt "Reguläre lithographische Strukturen zur Ausnutzung von Plasmoneneffekten in Dünnschicht-Solarzellen" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik durchgeführt. Die Ausnutzung von Plasmoneneffekten in lithographisch erzeugten Nanostrukturen zur Optimierung der Lichtausnutzung in Silizium-Dünnschicht-Solarzellen und damit zur Effizienzsteigerung der Solarzellen ist Ziel des beantragten Forschungsprojekts. Zur Modellierung und Optimierung der Optik von solarzellentypischen Teilsystemen bis hin zu gesamten Solarzellenstacks mit Nanostrukturen werden entsprechende Simulationstools entwickelt. Die Strukturparameter von sowohl periodischen Nanostrukturen als auch Strukturen mit komplexer Topologie werden hinsichtlich der Effizienzsteigerung von Solarzellen optimiert. Die gezielte Umsetzung solcher Nanostrukturen erfolgt durch lithographische Verfahren, wie z.B. Elektronenstrahllithographie. Hierzu werden entsprechende technologische Prozessoptimierungen durchgeführt. Zur optischen Charakterisierung der Nanostrukturen und der strukturierten Solarzellenschichtsysteme werden verschiedene Methoden der Streulichtanalyse eingesetzt.
Types:
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Dünnschichtsolarzelle ? Photovoltaik ? Silizium ? Solarzelle ? Optik ? Anlagenoptimierung ? Licht ? Materialprüfung ? Struktur-Wirkung-Beziehung ? Verfahrensoptimierung ? Leitfähigkeit ? Modul ? Produktionstechnik ? Simulation ? Verfahrenstechnik ? Modellierung ? Energieeffizienz ? Forschungsprojekt ? Halbleiter ? Lichtstreuung ? Effizienzsteigerung ? Nanomaterialien ? Dünnschichtmodul [Solarzelle] ? Elektronenstrahllithographie ? Plasmoneneffekt ?
Region: Thuringia
Bounding box: 11° .. 11° x 50.91667° .. 50.91667°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 2009-06-01 - 2012-11-30
Webseite zum Förderprojekt
https://www.tib.eu/de/filter?repno=03SF0354B (Webseite)Accessed 1 times.