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Teilvorhaben 3: Remote-Mikrowellenplasmaquelle

Description: Das Projekt "Teilvorhaben 3: Remote-Mikrowellenplasmaquelle" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Muegge-electronic GmbH durchgeführt. Ziel des Projekts ist die Erprobung, die Qualifizierung und die industrielle Anwendung neuer, auf F2/Ar/N2-Mischungen basierter Reinigungsprozesse für Chemical Vapour Deposition (CVD)-Anlagen in der Halbleiter-Fertigung. Mit diesen Fluor-Gasgemischen (hoher N2-Anteil) werden das bisher in großen Mengen verwendete NF3 und andere Treibhausgase aus der Gruppe der perfluorierten Kohlenwasserstoffe (PFC) wie z.B. C3F8, C2F6 und CF4 ersetzt (Drop-in-Replacement). Die derzeit technologisch unvermeidbaren Restemissionen der Prozessgase auch im unteren ppm-Bereich werden durch den Einsatz von Fluor-Gasgemischen bei der plasmaunterstützten Reinigung von CVD-Prozesskammern vermieden. Gerade bei NF3 ist die klimatische Auswirkung auch geringer Emissionen wegen des hohen Global Warming Potential (GWP)-Faktors versus CO2 von 17200 besonders hoch. Der GWP Faktor der F2/Ar/N2-Mischungen ist 1. Angestrebtes Ergebnis von ecoFluor ist eine Senkung des Ressourcenverbrauchs und der umweltschädlichen Restemissionen bei gleichzeitiger Erhöhung der Kosteneffizienz. Die Muegge GmbH wird eine auf die Projektbedürfnisse hin modifizierte 2,45 GHz Remote-Plasmaquelle bereitstellen und die Fraunhofer EMFT bei der Optimierung des Reinigungsprozesses mit F2/Ar/N2/-Mischungen bis hin zum Proof-of-Concept unterstützen. In der 2. Phase besteht die Aufgabe von Muegge darin, die 2,45 GHz Remote-Plasmaquelle auf weitere Anlagen und Prozesse anzupassen und sie auf Basis der mit der Fraunhofer EMFT erzielten Reinigungsprozessoptimierung zu standardisieren.

Types:

SupportProgram

Origin: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Plasmatechnik ? Argon ? Fluor ? Mikrowellen ? Stickstoffgehalt ? Brüden ? Stickstoff ? Oktafluorpropan ? Tetrafluormethan ? Treibhausgasemission ? Stickstofftrifluorid ? Chemische Zusammensetzung ? Gasgemisch ? Verfahrenskombination ? Verfahrensoptimierung ? Perfluorierte Kohlenwasserstoffe ? Materialeffizienz ? Deposition ? Reinigungsverfahren ? Ersatzstoff ? Treibhauspotenzial ? Produktionstechnik ? Chemikalien ? Emissionsminderung ? Ressourcenverbrauch ? F-Gase ? Kosteneffizienz ? Halbleiter ? Klimawirkung ? Versuchsanlage ? Treibhausgas ? Industrielles Verfahren ? Pilotprojekt ? Effizienzsteigerung ? Umweltverträglichkeit ? Materialeinsparung ? Chemical Vapour Deposition-Anlagen ?

Region: Hessen

Bounding box: 9° .. 9° x 50.55° .. 50.55°

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

Time ranges: 2016-01-01 - 2018-12-31

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