Description: Das Projekt "Teilprojekt: Erstellung PECVD-Plasmareaktor und Analyse des Plasmaprozesses" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Singulus Technologies AG durchgeführt. Innerhalb des SIMPLEX-Verbundvorhabens soll im SINGULUS-Teilvorhaben Erstellung PECVD-Plasmareaktor und Analyse des Plasmaprozesses insbesondere an der Beschichtungstechnik für die plasmagestützte Abscheidung von Schichten oder Schichtsystemen gearbeitet werden. Die Arbeiten konzentrieren sich auf Si-Nitrid und Al-Oxyd, die als Passivierschichten für kristalline Solarzellen insbesondere bei hocheffizienten Strukturen wie PERC-Zellen Verwendung finden. Im Vordergrund dieses Teilvorhabens steht die wissenschaftliche Untersuchung der Vorgänge in PECVD (Plasma-Enhanced-Chemical-Vapour-Deposition) Prozessen. Die Zusammenhänge zwischen der Plasmaerzeugung, der Umsetzung der beteiligten Gase im Plasma und die Vorgänge, die zur Schichtbildung auf dem Substrat führen, sollen mittels in-situ Analytik eingehend untersucht werden. Das Ziel ist die Optimierung einerseits des Plasmabeschichtungsreaktors und andererseits der Schichtqualität. Folgende Arbeiten werden durchgeführt:-Analyse des aktuellen Standes der Beschichtungstechnik für passivierende Al2O3-/SiNx-Schichten hinsichtlich der Schichteigenschaften und der Kostenstruktur bei der Herstellung -Analyse des aktuell eingesetzten Plasmabeschichtungsreaktors (SINGULAR-Waferbeschichtungsanlage) -Aufbau eines experimentellen Versuchsreaktors -Experimentelle Ermittlung der Plasmabedingungen und -erzeugung für beschichtende und nichtbeschichtende Gase unter Verwendung der von den Partnern entwickelten in-situ Analytik -Durchführung von Plasmamodellierungen und Berechnungen der Gasströmung im Reaktor -Abgleich der experimentellen Daten mit den Ergebnissen der innerhalb des Gesamtvorhabens durchgeführten Plasmamodellierungen -Untersuchungen der Schichtbildung und der Schichteigenschaften -Optimierung des Reaktors hinsichtlich Gas- und Energieverbrauch -Kontrolle des Beschichtungsprozesses mittels der in-situ Analytik -Optimierung des Reaktors für stabile räumliche und zeitliche Schichtabscheidung.
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Aluminiumoxid ? Plasmatechnik ? Plasmaphysik ? Siliziumnitrid ? Substrat ? Photovoltaik ? Solarzelle ? Geodaten ? Anlagenoptimierung ? Vakuumtechnik ? Beschichtung ? Qualitätsmanagement ? Gasförmiger Stoff ? MSR-Technik ? Messdaten ? Produktionskosten ? Reaktionsmechanismus ? Reaktor ? Abscheidung ? Strömungsmodell ? Energieeinsparung ? Energieverbrauch ? In-Situ-Verfahren ? Modellierung ? Kontrollsystem ? Kostenanalyse ? Versuchsanlage ? Gaserzeugung ? Anlagenbetrieb ? Effizienzsteigerung ? Analytik ? Materialeinsparung ? Plasma-Enhanced-Chemical-Vapour-Deposition-Prozess ? Betriebsparameter ? Kristalline Solarzelle ? Ablagerung ?
Region: Bayern
Bounding boxes: 12.53381° .. 12.53381° x 47.795° .. 47.795°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 2014-10-01 - 2017-09-30
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