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Entwicklung eines validierten, rückstandsfreien und mobilen Desinfektionsverfahrens für Oberflächen in hygienisch anspruchsvollen Reinräumen auf Basis kalter Atmosphärendruckplasmen

Das Projekt "Entwicklung eines validierten, rückstandsfreien und mobilen Desinfektionsverfahrens für Oberflächen in hygienisch anspruchsvollen Reinräumen auf Basis kalter Atmosphärendruckplasmen" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Europäische Forschungsgemeinschaft Reinigungs- und Hygienetechnologie e.V. durchgeführt. In verschiedensten Bereichen der industriellen Produktion nehmen die Anforderungen an die Qualität von Produkten und Verfahren ständig zu. Beispiele sind Elektronik-, Pharma- und Lebensmittelindustrie, Biotechnologie, der medizinische Bereich sowie Mikrosystemtechnik, Optik und Automobilindustrie. Daraus resultiert in immer stärkerem Maße die Notwendigkeit des Einsatzes von Reinräumen. Anforderungen für Reinräume resultieren neben den spezifischen Vorgaben der jeweiligen Reinraumbetreiber insbesondere aus den aktuellen Entwicklungen im Bereich der Normen und Richtlinien für Reinräume. Das ISO TC 209 hat neue Vorgaben für die physikalische (partikuläre), mikrobiologische und chemische Oberflächenreinheit erarbeitet. Insbesondere die chemische Oberflächenreinheit gewinnt gegenwärtig immer mehr an Bedeutung. Aus diesem Grunde wurden Untersuchungen zur Entwicklung eines rückstandsfreien Desinfektionsverfahrens auf der Basis kalter Atmosphärendruckplasmen durchgeführt. Im Rahmen der Forschungsarbeiten wurden zunächst reinraumspezifische Oberflächenmaterialien (z.B. Glas, Edelstahl, Eloxal, Polymethylmethacrylat, Polycarbonat, Feinsteinzeug) mit unterschiedlichen Atmosphärendruckplasmen unter Variation von Prozessgas (Druckluft, Argon, Stickstoff, Formiergas, Kohlendioxid), Düsengeometrie (bezogen auf den Austrittswinkel des Plasmastrahls), Abstand Düse-Substrat, Vorschubgeschwindigkeit, Anzahl der Überfahrten, sowie anderer praxisrelevanter Prozessparameter (z.B. Arbeitsdruck, Pulsfrequenz bzw. Pulsdauer) behandelt. Nach Festlegung der optimalen Prozessparameter hinsichtlich thermischer und chemischer Materialbeständigkeit gegenüber der Plasmaeinwirkung wurden Testmonitore mit Bakterien (Staphylococcus aureus, Enterococcus faecium, Escherichia coli, Pseudomonas aeruginosa) und Pilzen (Aspergillus brasiliensis, Candida albicans) entwickelt. Dabei wurden diese Mikroorganismen in unterschiedliche Matrices inkludiert und in unterschiedlichen Schichtdicken auf die jeweiligen Substrate aufgetragen. Die Reduktion der Anzahl der Mikroorganismen (Reduktionsfaktor) nach Plasmabehandlung wurde bestimmt. Bei dem in Caseinpepton eingebetteten Aspergillus brasiliensis wurden die höchsten Reduktionsfaktoren bei Einsatz von Druckluftplasma bzw. Kohlendioxidplasma mit der 15° Düse erzielt. Die maximalen Oberflächentemperaturen erreichten dabei 71 bzw. 58°C. Es konnte nachgewiesen werden, dass das entwickelte Verfahren sowohl bakterizid als auch fungizid wirkt. Ein weiterer entscheidender Vorteil gegenüber praxisüblichen chemischen Desinfektionsverfahren ist, dass durch die Plasmabehandlung keinerlei Resistenzen der Mikroorganismen gegenüber dieser Anwendung entwickelt werden. Nach Behandlung mit Druckluftplasma bzw. Kohlendioxidplasma konnten weder lebende Mikroorganismen noch organische Reststoffe auf den behandelten Oberflächen detektiert werden usw

Teilvorhaben 'Entwicklung von Hocheffizienzemittern auf Basis von APCVD Dotierquellen'

Das Projekt "Teilvorhaben 'Entwicklung von Hocheffizienzemittern auf Basis von APCVD Dotierquellen'" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Gebr. Schmid GmbH durchgeführt. Im Projekt APPI sollen kostengünstige Atmosphärendruck (AP) - Prozesse entwickelt werden, die die bisher üblichen Vakuum- und Niederdruckprozesse ersetzen können und so zu einer Senkung der Produktionskosten für kristalline Silizium-Solarzellen führen. Im Einzelnen handelt es sich dabei um: - Fortschrittliche Texturverfahren: nasschemisches, durch Metall-Nanopartikel katalysiertes Ätzen; Trockenätzen mittels Atmosphärendruckplasma - APCVD Phosphor-Dotierquellen und Diffusion (CVD: Chemical Vapor Deposition) - Passivierungs- und Antireflexschichten aus Atmosphärendruck-Abscheidung mittels AP PECVD oder APCVD (PECVD: Plasma Enchanced CVD) Die zu entwickelnden Prozesssequenzen sollen zu einer deutlichen Kostensenkung bei der Herstellung hocheffizienter PERC-Solarzellen (Passivated Emitter and Rear Cell) führen, wodurch die Wettbewerbsfähigkeit europäischer Zell- und Modulhersteller sowie Anlagenbauer auf dem Weltmarkt gestärkt wird. Das Verbundprojekt gliedert sich in die folgenden sieben Arbeitspakete (AP): - AP 0: Projektleitung - AP 1: Fortschrittliche Textur und Oberflächenbehandlung - AP 2: Atmosphärendruck-Abscheidung von Dotierquellen und Diffusion - AP 3: Atmosphärendruck-Abscheidung von Passivier- und Antireflexionsschichten - AP 4: Integration in den Solarzellenprozess - AP 5: Solarmodulherstellung und -testen - AP 6: Charakterisierung und Simulation.

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