Das Projekt "Teilprojekt 6: Entwicklung nasschemischer Beschichtungen^Photokatalytische Oberflächenveredelungen für die Medizin, Fertigungstechnik und Konsumgüter^Teilprojekt 8: Ionengestützte Verfahren für die Herstellung photokatalytischer Schichten^Teilprojekt 9: Neuartige Beschichtungsverfahren und ihre photokotalytische Wirksamkeit^Teilprojekt 10: Differenzierte Beschichtungsmethoden und Wirksamkeitsüberprüfungen^Teilprojekt 11: Plasmabeschichtung mit photokatalytischen Eigenschaften, Teilprojekt 5: PVD-Techniken" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: MAT PlasMATec GmbH.
Das Projekt "FP4-NNE-JOULE C, High Efficiency Crystalline Silicon thin Film Solar Cells" wird/wurde gefördert durch: Kommission der Europäischen Gemeinschaften Brüssel. Es wird/wurde ausgeführt durch: Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften, Max-Planck-Institut für Festkörperforschung.General Information: Objectives In recent years, thin film solar cells on the basis of crystalline silicon have found growing interest since they offer an ideal combination of useful properties of the silicon technology with the advantages of thin film techniques. They have the potential of good and stable efficiencies and on the other hand would guarantee low materials consumption. Large-area deposition techniques would be a potential alternative to the present technologies for mass production of self-supporting individual silicon solar cells using mostly ingot crystallization and wafering by mechanical sawing. This project undertakes a substantial research and development effort in the field of crystalline silicon thin film solar cells, with the main emphasis on high temperature chemical vapour deposition techniques, keeping in mind (low-cost) manufacturability and it has three main objectives: - to show the technical applicability of high efficiency solar cell designs to thin films; - to demonstrate the potential of low-cost manufacturing technologies; - to demonstrate the potential of low-cost substrates. Technical Approach Following a compromise strategy between high risk options and well-known technologies, three different tasks will cover the different aspects of the approach: Task 1 focuses on principal questions related to the crystalline silicon thin film solar cells, including the applicability of high efficiency designs to thin films, and the problems related to optical and electrical confinement. Task 2 addresses the main economic questions related to the thin film approach, namely the availability of low-cost large-area deposition techniques and the development of relatively simple techniques for the different steps in cell technology. Task 3 is related to the question whether non-silicon materials like ceramics are a solution for the substrate problem for high temperature silicon deposition, and what the consequences are for the module technique. Expected Achievements and Exploitation The project addresses a number of very important questions in the field of the crystalline silicon thin film cell. Although the basic understanding of the structure is common knowledge, there are a number of crucial problems associated with the practical realization of this type of thin film structure. Results are expected on all essential details: - the modelling of the ultimate device structure - the optimization of the critical optical and electrical confinement - the elaboration of high quality but cost-effective deposition techniques for Si - the solution of the low-cost substrate problem. The work plan also includes a thorough evaluation of the cost reduction potential for the manufacture of silicon thin films, the single most crucial step in the manufacturing process. Prime Contractor: European Renewable Energy Centers Agency - Eurec Agency EEIG; Heverlee/Belgium.
Das Projekt "Teilprojekt 4: Boridische und silizidische Schichten^Teilprojekt 2: Oxidische Schichten^Teilprojekt 2: Oxidische Schichten^Verschleissfeste PVD-/CVD-Trockenschmierstoffschichten fuer die umweltschonende und innovative Fertigung^Teilprojekt 2: Oxidische Schichten^Teilprojekt 1: Oxidische Schichten^Teilprojekt 3: Kohlenstoffbasierte Schichten^Verschleissfeste PVD-/CVD-Trockenschmierstoffschichten fuer die umweltschonende und innovative Fertigung^Teilprojekt 3: Kohlenstoffbasierte Schichten^Teilprojekt 3: Kohlenstoffbasierte Schichten^Teilprojekt 4: Boridische und silizidische Schichten^Teilprojekt 3: Kohlenstoffbasierte Schichten^Teilprojekt 4: Boridische und silizidische Schichten^Teilprojekt 4: Boridische und silizidische Schichten^Teilprojekt 4: Boridische und silizidische Trockenschmierstoffschichten, Teilprojekt 1: Sulfidische und selenidische Schichten" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: Mercedes-Benz Group AG.In diesem Teilvorhaben sollen sulfidische/selenitische Trockenschmierstoffschichten mittels der PVD-Technik entwickelt werden, welche ueber ausgepraegte Festschmierstoffeigenschaften bei ausreichender Verschleissfestigkeit verfuegen und somit die Funktionen des fehlenden Kuehlschmierstoffs bei der Trockenbearbeitung kompensieren koennen. Dabei sollen auch mit den Methoden der hoechstaufloesenden Oberflaechenanalytik ESCA, REM und XRD die Wirkung der Trockenschmierstoffschichten - insbesondere auch deren Diffusion in die Werkzeugoberflaeche - im Hinblick auf Lebensdauer, Verschleiss- und Trockenschmiermechanismen fuer die entsprechenden Bearbeitungsvorgaenge untersucht werden. Mittels der 'in-Situ'-Temperaturmessung soll nachgewiesen werden, inwieweit sich die Temperaturen waehrend der Zerspanung auf dem Werkzeug bzw. am Bauteil durch den Einsatz geeigneter Schmierstoffschichten senken lassen und somit das Verschleissverhalten am Werkzeug einerseits und die Beeinflussung der erzeugten Bauteiloberflaeche andererseits verbessern kann.
