Das Projekt "Plasmareinigung von Abgasen" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Plasma Partner Mende und Partner, Diplom-Ingenieure durchgeführt. In der Halbleiterindustrie entstehen nach PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) schaedliche FCKW-haltige Abgase. Diese Abgase muessen, ehe sie in die Atmosphaere gelangen, gereinigt werden. Zur Zeit sind zwei unterschiedliche thermische Verfahren im Einsatz. Diese haben entweder einen schlechten Wirkungsgrad oder sind kritisch in der Anwendung. Mit der Plasmareinigung, insbesondere mit Mikrowellenanregung, entwickeln wir zur Zeit ein Verfahren, welches sich nach den bisher erzielten Ergebnissen als sehr effektiv und sicher in der Anwendung erweist.
Das Projekt "Reinstwasser in der Halbleiterindustrie - Einsatz von Adsorberharzen zur TOC-Entnahme in Recyclinganlagen" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Universität Stuttgart, Institut für Siedlungswasserbau, Wassergüte- und Abfallwirtschaft durchgeführt. Ziel des Projektes war es, zu untersuchen, ob der Einsatz von Adsorberharzen eine geeignete Loesung fuer die Entnahme organischer Inhaltsstoffe aus verunreinigtem Reinstwasser der Halbleiterindustrie darstellt. Weiterhin wurden Ueberlegungen angestellt, welche Verfahren grundsaetzlich fuer Recyclinganlagen in Frage kommen. Diese Fragestellungen wurde durch eine Literatur- und Patentrecherche sowie durch Gespraeche mit Fachleuten der Halbleitertechnologie geklaert.
Das Projekt "Mathematische Simulation von Verbrennung und chemischen Reaktionen in Abgas-Verbrennungsanlagen (Abatement)" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Technische Universität Dresden, Institut für Thermodynamik und Technische Gebäudeausrüstung, Professur Technische Thermodynamik durchgeführt. Ziel des Projektes ist die Entwicklung eines Anlagenkonzeptes bzw. von Teilen eines Anlagenkonzeptes, mit dem Schadgase aus Prozessen der Halbleiterindustrie oder verwandten Industrien in einen gefahrlosen Zustand überführt werden (Abatement). Das bedeutet, dass die in der Entsorgungsanlage entstehenden Reaktionsprodukte als ungefährliches Gas in die Umgebung entlassen werden oder in fester oder flüssiger Form abgeschieden werden können. Dabei dürfen keine neuen Schadstoffe entstehen (z.B. NOx). Die Gefährlichkeit der zu entsorgenden Gase besteht in einer Gefährdung für die menschliche Gesundheit (Toxizität), die Umwelt (Gefährdung der Atmosphäre) und der Anlagentechnik (Verblockung, Korrosion, Brand- oder Explosionsgefahr). Zur Lösung der Aufgabe werden unterschiedliche technische Konzeptionen mathematisch simuliert. Besondere Herausforderung ist die Berechnung detaillierter chemischer Umwandlungsvorgänge in der Gasphase. Hierzu werden neben kommerzieller Software Eigenentwicklungen zur Kopplung Chemie-Strömung verwendet und in diesem Zusammenhang weiterentwickelt. Ein wichtiger Aspekt ist die Modellierung der Partikelbildung aus der Gasphase sowie der Transport noch anwachsender Partikel in der heissen Gasströmung.
Das Projekt "Umwelttoxikologische Gefaehrdungsabschaetzung fuer komplexe Abprodukte aus Hochtechnologie-Plasmaprozessen: Chemisch-analytische Pilotphase" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Universität Halle-Wittenberg, Universitätsklinikum Halle (Saale), Institut für Umwelttoxikologie durchgeführt. Plasmaverfahren nutzen reaktive Chemikalien in hochenergetischen Prozessen zur Oberflaechenbehandlung. Die Verfahren fuehren zu undefinierten, primaer gasfoermigen Abfallstoffen, die teilweise in den Anlagen zu festen Abscheidungen kondensieren und in Abhaengigkeit vom Dampfdruck in die Umwelt emittiert werden. Analysendaten belegen, dass es sich um komplexe Stoffgemische aus anorganischen Reaktionsprodukten und organischen Verbindungen handelt. Die organischen Verbindungen sind im Falle halogenhaltiger Aetzgase perhalogenierte Kohlenwasserstoffe.Grundlegende Erkenntnisse zur Bildung und zur Toxikologie der Abfallstoffe konnten international erstmals im Rahmen von Untersuchungen unserer Arbeitsgruppen bei der Bearbeitung des Verbundvorhabens 'Gesundheitliche Risiken durch Plasmaaetzprozesse in der Halbleiterindustrie' (BMFT-Projekt; Foerdernummer 01 HK 571) gewonnen werden. In der Pilotphase des laufenden Forschungsprojektes wurden repraesentative Abprodukte aus Plasmaprozessen chemisch-analytisch charakterisiert. Die analytischen Leitkomponenten wurden ermittelt und mit geeigneten chemischen und physikalischen Methoden fraktioniert. Nach Vorlage der qualitativen und quantitativen Analysendaten erfolgt nun eine Begutachtung, bevor in einem beantragten Folgeprodukt toxikologische Testsysteme zur Charakterisierung der Gemische und Fraktionen eingesetzt werden. Die Ergebnisse sollen umweltmedizinische Vorsorge- und Ueberwachungsmoeglichkeiten schaffen und die Basis fuer die Entwicklung integrierter Rueckhaltesysteme und Entsorgungsverfahren bilden.