Das Projekt "Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Glancing Angle Deposition von Si-Ge-Nanosäulen, Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Forschung, Technologie und Raumfahrt. Es wird/wurde ausgeführt durch: Universität Halle-Wittenberg, Interdisziplinäres Zentrum für Materialwissenschaften.
