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Duennschicht-Solarzellen aus amorphem Silizium - Photo CVD

Das Projekt "Duennschicht-Solarzellen aus amorphem Silizium - Photo CVD" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Universität Frankfurt, Institut für Physikalische und Theoretische Chemie durchgeführt. Die heutigen Methoden zur Abscheidung von amorphem Silizium basieren fast ausschliesslich auf dem Verfahren der Plasma CVD. Der Antrag hat die Entwicklung eines Verfahrens zur Herstellung von Schichten mit Hilfe von photochemischer Zersetzung der Ausgangssubstanzen zum Ziel. Bei diesem Verfahren spielt die Quantenenergie des Lichtes eine entscheidende Rolle. Da die photochemische Zersetzung ueber die elektronische Anregung der Molekuele verlaeuft, liegen die Quantenenergien im UV bzw Vacuum UV. Das Verfahren sieht vor, verschiedene Lichtquellentypen zu Photo CVD zu benutzen. Wegen der Selektivitaet photochemischer Prozesse ist damit zu rechnen, dass durch die beabsichtigte Ausnutzung laserdiagnostischer Methoden eine gezielte Studie des Mechanismus der entscheidenden Schritte des Abscheidungsprozesses und eine Untersuchung der den Schichtaufbau im wesentlichen tragenden Intermediaten gemacht werden kann.

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