Das Projekt "Vermeidung HKW-haltiger Abfaelle bei der industriellen Teilreinigung von stark wechselnden Werkstuecken" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Siemens AG durchgeführt. Zur Vermeidung HKW-haltiger Loesemittelabfaelle aus der Reinigung, insbesondere Entfettung von Metall- und Kunststoffhalb- und -fertigerzeugnissen wird das Verfahren auf ein schwach alkalisches waessriges Medium umgestellt. Die mit einer programmierbaren Steuerung versehen Anlage besteht aus mehreren geschlossenen Einzelkammern fuer die verschiedenen Reinigungsvorgaenge und ist so gestaltet, dass sowohl grossdimensionierte Einzelteile als auch Schuettgueter kleinerer Abmessungen behandelt werden koennen. Das System arbeitet mit Wasserkreislauffuehrung. Verunreinigte Spuel- und Waschwaesser werden aufgearbeitet. Das Verfahren ist abfallarm; verbleibende Reststoffe koennen bei hoeheren Oelkonzentrationen verwertet werden.
Das Projekt "Teilvorhaben 2: Verfahrensentwicklung / Erprobung" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Zeiss Jena, Abteilung Produktion Jena - Servicebereich durchgeführt. Verbund-Vorhaben: In der Carl Zeiss Jena GmbH sind zur Loesung von Reinigungsaufgaben fuer die Metallreinigung Anlagen auf Basis CKW (Perchlorethylen) im Einsatz. Diese Anlagen sind sogenannte 'Offene Anlagen', was zu erheblichen Loesungsmittelverlusten durch Emission fuehrt. Die Forderungen der 2. BImSchV koennen nicht eingehalten werden. Das Betreiben der Anlagen fuehrt zu Umweltschaeden und gefaehrdet die Gesundheit des an den Anlagen arbeitenden Personals. Im Rahmen des Verbund-Vorhabens sollen die CKW-Anlagen durch umweltfreundliche ersetzt werden. Es ist die Entwicklung und grosstechnische Erprobung von waessrigen Reinigungsanlagen und Anlagen auf der Basis Kohlenwasserstoff-/ Wasser- Systeme vorgesehen. Schwerpunkte der Verfahrensentwicklung sind: Erhoehte Wertstoffrueckgewinnung der Waschmittelinhaltstoffe; Minimierung des Waschmitteleinsatzes Sonderabfallminimierung durch Erprobung geeigneter Aufbereitungsverfahren und Keislauffuehrung.