API src

Found 1 results.

Teilvorhaben: Simulation und Erforschung des PSD-Prozesses für InGaN-basierende LEDs

Das Projekt "Teilvorhaben: Simulation und Erforschung des PSD-Prozesses für InGaN-basierende LEDs" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von OSRAM Opto Semiconductors GmbH durchgeführt. Ziel des Teilvorhabens ist die Erforschung der Eignung des PSD (Pulsed-Sputter-Deposition)-Prozesses für die Produktion von GaN-basierenden optoelektronischen Bauelementen. Dazu trägt es auf folgende Weise bei: - Unterstützung der Prozessentwicklung und des Kammerdesigns durch Simulation - Bereitstellung von MOVPE-Teilstrukturen und Überwachsen von PSD-Teilstrukturen zu vollständigen LEDs - Charakterisierung von hybriden und reinen PSD Wafern - Prozessierung der Wafer zu LED-Bauelementen - Messung der elektrooptischen Parameter - Spezifikation einer PSD-Prototypanlage Durch die angestrebte Herstellung von hochwertigen LED-Strukturen mittels PSD kann der kosten- und investintensive MOVPE-Prozess durch die ressourcenschonendere PSD-Epitaxie ersetzt werden. In diesem Teilvorhaben soll durch Simulation des PSD-Prozesses ein grundlegendes Verständnis der physikalisch-chemischen Vorgänge in der Gasphase und auf der Waferoberfläche generiert und dadurch die Prozessentwicklung durch die universitären Projektpartner beschleunigt werden. Desweiteren werden den Projektpartnern GaN-Schichten zur Verfügung gestellt, um homoepitaktische Schichten mittels PSD darauf abzuscheiden. Nach der Optimierung von Einzelschichten werden sowohl LED-Teilstrukturen zum Überwachsen mit PSD bereitgestellt sowie mittels PSD hergestellte LED-Teilstrukturen durch Überwachsen mit MOVPE-Schichten zu LED-Strukturen vervollständigt. Diese Schichtstapel werden bei OSRAM OS auf Waferebene charakterisiert und durch Vergleich mit reinen MOVPE-Strukturen bewertet. Für eine fundierte Bewertung der Qualität von PSD-Schichten müssen hybride oder reine PSD-Strukturen zu Dünnfilm-LED-Bauteilen prozessiert und umfassend elektrooptisch charakterisiert werden. Abschließend soll zusammen mit Roth & Rau die Spezifikation für eine Demonstrator-PSD-Anlage stehen, die eine weitere Erforschung der Eignung des PSD Prozesses für eine Großvolumenproduktion ermöglichen soll.

1