Das Projekt "Teilprojekt 2: Oxidische Schichten" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Euromat GmbH durchgeführt. Ziel der Arbeiten der EUROMAT GmbH innerhalb des Teilprojektes ist es, unter Einsatz der Hochfrequenz- und DV-Sputtertechnoloige, oxidische Schichtsysteme und hier insbesondere Multilayerschichten zu entwickeln und auf ihre Eignung als Trockenschmierstoffschicht hin zu untersuchen. Als Beschichtungsanlage steht eine produktionstaugliche Anlage CC800-RF zur Verfuegung. Als Ausgangspunkt der Entwicklung dient ein Schichtsystem auf der Basis TiAlN und Al2O3. Das Schichtsystem TiAlN/Al2O3 soll in einem ersten Schritt durch die Modifikation von Lagezahlen und den Einbau weicher Zwischenschichten hinsichtlich seiner Eigenschaften fuer die Trockenbearbeitung untersucht und angepasst werden. Zweiter Ansatz ist die Basis ZrO2 bzw. ZrO2+A12O3. ZrO2 zeigt bei hoher Bruchzaehigkeit und Verschleissfestigkeit mit gleichzeitig geringem Reibungskoeffizienten gegenueber Stahl gute Ergebnisse.
Das Projekt "HORA - Hochratenabscheidetechnologie für die Kontakte von kristallinen Silizium-Solarzellen" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Applied Materials GmbH & Co. KG durchgeführt. In diesem Projekt sollen die Grundlagen für die industrielle Umsetzung von physikalischen Gasphasen-Abscheidetechnologien für die Kontakte von kristallinen Si-Solarzellen erforscht und entwickelt werden. Unter Verwendung dieser industriell umsetzbaren Hochratenabscheidetechnologie sollen Zellwirkungsgrade auf monokristallinen Si-Scheiben von größer als 20% demonstriert werden. Die Ergebnisse dieser Entwicklung sollen in einem industriellen Einsatz von Hochrateabscheideverfahren für Si-Solarzellen münden. Diese Verfahren stehen sowohl für dickere Schichten (bspw. zur Rückseitenmetallisierung) als auch dünnere (vorderseitige Galvaniksaatschichten) zur Verfügung. Zur Evaluierung der Inline-Fähigkeit der Abscheidetechnologie wird am Fraunhofer ISE ein vorkommerzieller Prototyp aufgebaut.
Das Projekt "Teilvorhaben: Aufskalierung einer neuen Barriereschicht und einer transparenten Elektrodenschicht mittels Sputtertechnologie" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von ROWO Coating Gesellschaft für Beschichtung mbH durchgeführt. Ziel des EnOB-Verbundvorhabens FLEX-G ist die Erforschung von Technologien zur Herstellung von transluzenten und transparenten Dach- und Fassadenelementen mit integrieren optoelektronischen Bauelementen. Im Fokus steht dabei ein schaltbarer Gesamtenergiedurchlassgrad (g-Wert). Dieser wird durch elektrochrome Bauelemente erreicht, die mittels Rolle-zu-Rolle Beschichtungsverfahren direkt auf einer flexiblen ETFE-Folie aufgebaut werden. ETFE ist ein häufig in Membrandächern von Stadien, Flughäfen oder Bahnhöfen eingesetztes Material. Ein zweites Projektziel ist die Erforschung von Technologien zur direkten Integration großflächiger flexibler Solarzellen auf Basis der organischen Photovoltaik in ETFE Membranen sowie die Anpassung dieser an spezifischen Anforderungen im Membranbau. Das Teilvorhaben des Partners ROWO Coating hat das Ziel, die Aufskalierung der am FEP erarbeiteten Rolle-zu-Rolle Beschichtungstechnologie für die produktive Abscheidung von Permeationsbarriereschichten auf der ETFE-Folie mittels reaktivem Sputtern durchzuführen, sowie auch die Aufskalierung der Sputterbeschichtung von transparenten Elektrodenschichten auf diesen Permeationsbarriereschichten.
Das Projekt "Entwicklung einer Dünnschichttechnologie zur Herstellung von gasempfindlichen Metallschichten für die Gassensorik - Neuartiger elektrochemischer Dünnschichtsensor zur Messung von Schadgasen" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Technische Universität Dresden, Institut für Festkörperelektronik durchgeführt. Entwicklung einer Sputtertechnologie zur Herstellung aktiver Sensorschichten, Herstellung von Testmustern für elektrochemische NOx Dünnschichtsensoren, Entwicklung von Messverfahren zur Bewertung von Dünnschichten für elektrochemische Gassensoren.